1、應用范圍概述：

電解電容器生產、鋁箔及工作件的清洗，電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液，顯像管和陰極射線管生產配料用純水，黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水 ，液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液，晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產中高純水清洗硅片等；醫藥純化水，化妝品用水，電子工業高純水，電鍍件的清洗及配料，太陽能清洗，單晶硅片清洗，打印色漿的配料，蓄電池用水。

2、達到標準

純化水標準，注射水標準，國家電子級純水標準，美國SEMI標準，顯像管、液晶顯示器用純水水質， 集成電路用純水水質。

3、設備特點

為滿足用戶要求，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低作人員的維護工作量。在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，設計合理預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（或EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。